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恒溫恒濕試驗箱也稱恒溫恒濕試驗機、恒溫恒濕實驗箱、可程式濕熱交變試驗箱、恒溫機或恒溫恒濕箱。該設備是模擬自然環(huán)境的溫度和濕度條件下，對產(chǎn)品恒定的濕度和溫度的性能檢測，以此評估產(chǎn)品性能、穩(wěn)定性和耐久性。其應用很廣泛，可以對各種材料、電子元器件、汽車零部件、食品、藥品等進行測試。一、對于恒溫恒濕試驗箱由哪五大系統(tǒng)組成呢？由控制系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、濕度系統(tǒng)和空氣循環(huán)系統(tǒng)等組成，上述系統(tǒng)分屬電氣和機械制冷兩大方面。1、控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)是恒溫恒濕試驗箱的核心，決定了恒溫恒濕箱的...

真空度=(大氣壓強—絕對壓強)/pg注：p為液體密度，(測量地點的氣壓假設為100KPa)在普通真空表上就該顯示為-0，在20℃、海拔高度=0的地方，因此也有廣泛應用。真空烘箱對于真空度的標識通常有兩種方法：一、“絕對壓力"、“絕對真空度"(即比“理論真空"高多少壓力)標識；在實際情況中。通常用“真空度高"和“真空度低"來表示，325KPa(即一個標準大氣壓)，在真空狀態(tài)下，氣體的稀薄程度通常用氣體的壓力值來表示，“真空度"就是真空的程度，顯然，當測量真空02MPa。二、“相...

據(jù)標準要求高溫烘箱的工作室容積至少應是被測試產(chǎn)品外廓體積的3～5倍，其理由如下：1、被測試產(chǎn)品置入箱體后擠占了流暢的通道，通道變窄將導致氣流流速的增加，加速氣流與被測試產(chǎn)品之間的熱交換。這與環(huán)境條件的再現(xiàn)不符，因為在有關標準中對涉及溫度環(huán)境試驗都規(guī)定高低溫試驗箱內(nèi)試驗樣件周圍的空氣流速不應超過1.7m/s，以防止試驗樣件和周圍氣氛產(chǎn)生不符合實際的熱傳導，在空載時試驗箱內(nèi)平均風速為0.6～0.8m/s，不超過1m/s，滿足以上要求所規(guī)定的空間及面積比時，流場的風速可能增大(50...

1、制冷系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)是綜合環(huán)境試驗箱的要害部分之一。一般來說，愛義信高低溫試驗箱的制冷方式都是機械制冷以及輔助液氮制冷，機械制冷采用蒸汽壓縮式制冷，它們主要由壓縮機，冷凝器，節(jié)流機構(gòu)和蒸發(fā)器組成，由于我們試驗的溫度低溫要達到-55℃，單級制冷難以滿足滿足要求，因此試驗箱的制冷方式一般采用復疊式制冷。我司生產(chǎn)的環(huán)境箱的制冷系統(tǒng)由兩部分組成，分別稱為高溫部分和低溫部分，每一部分是一個相對的制冷系統(tǒng)。高溫部分中制冷劑的蒸發(fā)吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化；低溫部分制冷劑的蒸發(fā)...

氣候環(huán)境試驗——恒溫恒濕試驗箱、高低溫試驗箱、冷熱沖擊試驗箱、濕熱交變試驗箱、快速溫變試驗箱、線性溫變試驗箱、步入式恒溫恒濕試驗房等；都會涉及到溫度的控制因為有多個可供選擇的溫度控制點，氣候環(huán)境試驗箱溫度控制方法也有三種方案：進風口溫度控制、產(chǎn)品溫度控制和“復疊式"溫度控制。前兩種都是單點型溫度控制，第三種是雙參數(shù)型溫度控制。單點型溫度控制方法已經(jīng)非常成熟，且應用較多。早期的控制方式多數(shù)是“乒乓式"的開關控制，俗稱冷了加熱，熱了給冷，這種控制方式是反饋控制方式，當實測到循環(huán)氣...

晶圓烘箱用于晶圓、半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。工作原理主要基于熱對流方式。在烘箱內(nèi)部，通過電熱器等產(chǎn)生熱風，使熱風循環(huán)流動，從而對待烘干的半導體材料進行均勻地加熱和干燥。這種加熱方式特別適合處理較厚的半導體材料，并能達到較好的烘干效果。晶圓烘箱通常具有多種特性，例如密封性能好、置物架設計...

在HMDS（六甲基二硅氮烷）使用過程中，附著力不足和污染是兩大常見問題。以下是針對這些問題的系統(tǒng)性解決方案，涵蓋原因分析、解決措施及預防策略：一、附著力不足的解決方案1.原因分析與對應措施1，基底清潔：強化清洗流程：SC1（NH?OH/H?O?/H?O）清洗→超純水沖洗→氮氣干燥-增加氧等離子體清洗（100W,1–2分鐘）2，HMDS失效或污染：更換新鮮HMDS（儲存條件：密封充氮，濕度＜30%）-驗證HMDS有效期（通常開封后≤6個月）3，工藝參數(shù)偏差：優(yōu)化參數(shù)：溫度升至1...

HMDS（六甲基二硅氮烷）在光刻工藝中的參數(shù)設置直接影響光刻膠的附著力與工藝穩(wěn)定性。以下是不同應用場景下的具體參數(shù)設置及優(yōu)化建議：一、半導體制造（硅片光刻）1.HMDS氣相處理（VaporPriming）溫度：130°C（適用于大部分邏輯芯片工藝）；先進制程（如EUV光刻）：140–150°C（增強表面反應活性）。典型范圍：120–150°C優(yōu)化建議：時間：蒸汽暴露：30–60秒（確保HMDS充分擴散至表面）；烘烤：1–2分鐘（促進化學鍵形成）。氣體混合比例：HMDS:氮氣（...

HMDS烘箱主要用于半導體和微電子制造中的光刻工藝，具體應用如下：1.去除光刻膠中的溶劑預烘烤：在涂覆光刻膠后，HMDS烘箱通過加熱去除膠中的溶劑，增強膠與基底的附著力。2.增強附著力HMDS處理：HMDS作為增附劑，烘箱加熱使其與基底表面反應，形成化學鍵，提升光刻膠的附著力。3.提高光刻精度均勻加熱：烘箱提供均勻加熱，確保光刻膠厚度一致，減少缺陷，提升圖案精度。4.工藝穩(wěn)定性精確控溫：烘箱具備精確的溫度控制，確保工藝穩(wěn)定性和重復性。5.提高生產(chǎn)效率批量處理：可同時處理多個晶...

全自動氮氣柜主要以氮氣為保護氣體，通過控制柜內(nèi)的氣體濃度和溫度，確保樣品在低氧或低溫環(huán)境中存儲。該設備是使用氮氣的惰性，避免氧氣和水分對樣品造成損害。氮氣不但能夠有效減緩樣品的氧化和水解反應，還能為某些易揮發(fā)物質(zhì)提供必要的保護。全自動氮氣柜的應用領域十分廣泛：1.食品加工：用于食品的保鮮和保存，延長食品的保質(zhì)期。2.化工：用于惰性氣體保護反應過程中的原料和產(chǎn)物，保證反應的純度和效果。3.制藥：保護藥品的純度和質(zhì)量，防止其受到濕氧的污染。4.半導體：廣泛應用于半導體制造過程中的...

不銹鋼氮氣柜是一種用于存儲對濕度、氧氣敏感的物料或設備的專用設備，廣泛應用于電子、化工、醫(yī)藥、食品等行業(yè)。以下是關于不銹鋼氮氣柜的詳細介紹：主要特點材質(zhì)：采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼（如304或316不銹鋼），具有耐腐蝕、耐高溫、易清潔的特點。柜體結(jié)構(gòu)堅固，密封性能好，適合高潔凈度環(huán)境。氮氣環(huán)境：通過注入高純度氮氣，降低柜內(nèi)氧氣濃度，防止物料氧化或受潮。通常配備氧氣濃度監(jiān)測裝置，確保柜內(nèi)氧氣濃度維持在設定范圍內(nèi)（如低于1%）。濕度控制：內(nèi)置濕度控制系統(tǒng)，可將柜內(nèi)濕度控制在極低水平（如低于1...

氮氣保護烘箱是一種專門設計用于在氮氣環(huán)境下進行加熱和干燥的設備，廣泛應用于材料科學、化學合成、電子器件和生物醫(yī)藥等領域。主要功能是通過氮氣的惰性，使樣品在高溫條件下不與空氣中的氧氣反應，從而防止氧化、酯化等不良反應。氮氣相比于空氣含氧量極低，能夠有效抑制火災的發(fā)生及材料的劣化。氮氣保護烘箱的結(jié)構(gòu)組成：1.外殼：一般采用不銹鋼或噴塑材料，具有良好的耐腐蝕性和耐高溫性。2.內(nèi)膽：內(nèi)膽多采用耐高溫材料，具備良好的熱傳導性。3.加熱系統(tǒng)：通常為電加熱系統(tǒng)，確保加熱均勻。4.溫控系統(tǒng)：...